Điện cực với lớp phủ factal TiN
(a) Hình đầu điện cực (32X), phóng đại (b) 1000X,
(c) 10.000X, (d) 20.000X

Nhờ lớp phủ fractal, diện tích giao diện của các điện cực lớn trên 1000 lần diện tích điện cực. Nhờ vậy mật độ dòng điện (current density) rất thấp, ít tạo nên những phân tử oxy tự do (free oxygen radical) và vì vậy làm giảm hiện tượng viêm thường làm ngưỡng kích thích tăng ở thời gian đầu. Ngoài ra, nhờ diện tích giao diện lớn nên biên độ các sóng được nhận cảm cao. Nhờ vậy mà có thể làm các điện cực nhỏ lại (sẽ giảm nhận cảm) hầu hạ ngưỡng kích thích (giảm hao pin) và tăng điện trở (giảm hao pin). Hãy đọc bài về điện cực. Chỉ có các điện cực mới có lớp phủ Iridium fractal!

Gần đây công ty St Jude cũng đã bắt đầu dùng lớp phủ TiN (Titanium nitride) fractal trên các điện cực hầu giảm các sóng tạo tác phân cực (polarization artifact). TiN fractal là lớp phủ Biotronik dùng trước khi chuyển sang Iridium fractal. Lớp phủ TiN fractal phải tốt hơn lớp phủ TiN St Jude đã dùng trước đó!
Công ty Medtronic đã bắt đầu chuyển từ chất platinized platinum trong các điện cực sang lớp phủ TiN. Chắc trong tường lai cũng sẽ theo đường của St Jude ?

Bạn có thể liên lạc với chúng tôi qua e-mail ở địa chỉ lienlac@tamthuvn.com.  Chúng tôi sẽ trả lời  bạn trong thời gian sớm nhất có thể. Cám ơn bạn đã ghé thăm trang web của Nortwest Signal Processing.

Last updated:  16/06/2010             Copyright NWSPI 2007-2010